[发明专利]一种天然气水合物静态强化快速连续生成装置及方法有效
申请号: | 201810977436.4 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN109097120B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 樊栓狮;汪润凯;郎雪梅;王燕鸿;李刚 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C10L3/10 | 分类号: | C10L3/10;B01J3/04 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;江裕强 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种天然气水合物静态强化快速连续生成装置及方法。所述装置包括料液箱、反应釜及其制冷系统、温度控制系统与压力控制系统、天然气缓冲罐、压缩机、水合物储罐以及它们之间的连接管道与阀门。所述方法是将水与促进剂进入料液箱中混合配成水溶液,从反应釜顶部进入,在釜内液体均匀分布器的作用下,液体沿釜内壁膜状流下,在流动的过程中与釜内壁进行换热,使液膜沿反应釜轴向温度呈梯度分布,从反应釜底部通入天然气,与液膜逆流接触,从而形成水合物膜,在反应釜内刮片的作用下,水合物膜脱离釜壁,与溶液形成水合物浆流入水合物储罐中。本发明的优点是制备方法与装置简单,天然气水合物生成快,传热效率高,能耗低。 | ||
搜索关键词: | 一种 天然气 水合物 静态 强化 快速 连续 生成 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种天然气水合物静态强化快速连续生成装置,其特征在于,包括料液箱入口阀(1)、料液箱(2)、料液箱出口阀(3)、然气缓冲罐入口阀(4)、天然气缓冲罐(5)、第一压缩机(6)、第一压缩机出口调压阀(7)、压力控制系统(8)、反应釜(9)、温度控制系统(10)、制冷系统(11)、第一三通阀(12)、第一天然气水合物储罐(13)、第二天然气水合物储罐(14)、第二压缩机(15)、第二压缩机出口调压阀(16)和第二三通阀(17);所述料液箱入口阀(1)依次连接料液箱(2)、料液箱出口阀(3)、反应釜(9),所述反应釜(9)还连接有制冷系统(11)与温度控制系统(10);所述天然气缓冲罐入口阀(4)连接天然气缓冲罐(5),所述天然气缓冲罐(5)与第一压缩机(6)、第一压缩机出口调压阀(7)依次连接,所述第一压缩机出口调压阀(7)分别与压力控制系统(8)、反应釜(9)连接,所述反应釜(9)底部连接有第一三通阀(12),所述第一三通阀(12)分别与第一天然气水合物储罐(13)、第二天然气水合物储罐(14)连接;所述天然气缓冲罐(5)还连接有第二压缩机(15),所述第二压缩机(15)与第二压缩机出口调压阀(16)、第二三通阀(17)依次连接,所述第二三通阀(17)分别与第一天然气水合物储罐(13)、第二天然气水合物储罐(14)连接,所述压力控制系统(8)连接第二压缩机出口调压阀(16);所述反应釜内有个刮片(91)、液体均匀分布器(92)、进液口(94)、进气口(95)以及水合物浆出口(96),反应釜外有多个制冷半导体(93),所述刮片(91)位于反应釜内部,与反应釜内壁贴合,所述进液口(94)位于反应釜顶部,所述液体均匀分布器(92)位于反应釜上部,进液口下方,所述进气口(95)位于反应釜下方,所述水合物浆出口(96)位于反应釜底部,所述制冷半导体(93)环绕在反应釜外侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810977436.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。