[发明专利]哑光干粒釉面砖及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810979553.4 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN108911701B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 吴志坚;程贵生;袁红;李丽芳;潘婷 申请(专利权)人: 佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司
主分类号: C04B33/13 分类号: C04B33/13;C04B33/34;C04B41/89;C03C8/00;C03C8/20;C03C8/16;C03C8/04
代理公司: 佛山市恒瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 44688 代理人: 史亮亮
地址: 528000 广东省佛*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种哑光干粒釉面砖及其制备方法。一种哑光干粒釉面砖,包括砖坯以及依次设置在砖坯表面的底釉和干粒釉。所述方法包括以下步骤:压机打好的砖坯经过第一次干燥除去里面的自由水,控制砖坯中的水分含量小于砖坯总质量的0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水雾;然后向坯体表面淋底釉,然后用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥;喷干粒釉,然后经干燥窑第三次干燥后入烧成窑炉,经过1170‑1185℃高温烧制60‑70min获得半成品;半成品经过磨边和用纤维抛光模块组合进行柔抛,检质后打包作为成品。本申请提供的哑光干粒釉面砖及其制备方法,制得的哑光干粒釉面砖具有逼真的石材质感,同时触感温润如玉,结构强度高。
搜索关键词: 哑光干粒 釉面砖 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种哑光干粒釉面砖,其特征在于,包括砖坯以及依次设置在所述砖坯表面的底釉和干粒釉;所述砖坯以质量百分比计,包括:长石25‑30%、叶腊石18‑20%、高岭土20‑25%、石英砂20‑25%和大理石5‑10%;所述底釉以质量百分比计,包括:SiO240‑55%、Al2O310‑15%、CaO8‑10%、MgO5‑8%、ZnO10‑15%、K2O4‑6%、Na2O1‑3%、BaO1‑3%;所述干粒釉以重量份数计包括干粒40‑50份、保护釉10‑20份、高岭土浆1‑3份、烧滑石浆0.5‑1.5份、添加剂1‑3份、悬浮剂90‑110份和排墨剂0.05‑0.1份;所述干粒以质量百分比计,包括:Al2O35‑15%、SiO240‑55%、CaO10‑18%、K2O5‑10%、MgO5‑12%、BaO4‑10%、ZnO2‑5%、RuO20.1‑0.5%、V2O50.1‑0.5%、Bi2O30.1‑0.5%和TiO20.1‑0.5%;所述保护釉按质量百分比计包括透明釉粉59‑65%、羧甲基纤维素钠0.2‑0.5%、三聚磷酸钠0.2‑0.4%、氯化铝1‑2%、硫酸铝1‑2%、十二水合硫酸铝钾1‑2%、水30‑36%;所述透明釉粉以质量百分比计包括Al2O310%、SiO252%、CaO15%、K2O8%、MgO5%、BaO4.5%、ZnO5%、Lu2O30.5%;所述添加剂为质量浓度为3‑5%、溶质为酚醛树脂、溶剂为丙酮的溶液。
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