[发明专利]一种N-甲基-2-吡咯烷酮/水二元体系超声辅助剥离氮化钼纳米片的方法在审

专利信息
申请号: 201810982527.7 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN109052342A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 王素清;陈国平;王海辉;黄玉平 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: C01B21/06 分类号: C01B21/06;B82Y30/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;冯振宁
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种N‑甲基‑2‑吡咯烷酮/水二元体系超声辅助剥离氮化钼纳米片的方法。该方法是利用重结晶盐模板法制备出块状的MoN后,将MoN加入NMP/H2O二元体系中超声,然后离心分离,收集上清液,最后得到MoN溶液。使用该法剥离出来的氮化钼纳米片的片层大小可达1μm,MoN溶液浓度可达0.06mg/mL。本发明与传统液相剥离法相比,制备得到的MoN片尺寸大,产量高。本发明方法操作简单,可重复性高,该二元体系液相剥离法亦可用于其他二维纳米片的剥离。
搜索关键词: 二元体系 氮化钼 纳米片 剥离 超声辅助 吡咯烷酮 剥离法 二维纳米片 可重复性 上清液 重结晶 超声 片层 制备
【主权项】:
1.一种N‑甲基‑2‑吡咯烷酮/水二元体系超声辅助剥离氮化钼纳米片的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将钼粉分散于乙醇中,然后逐滴加入双氧水进行氧化,再倒入氯化钠水溶液中,然后蒸发结晶,得MoO3@NaCl颗粒;(2)将所得的MoO3@NaCl颗粒进行研磨后煅烧,再用水清洗,以除掉模板盐,得到块状MoN纳米片;(3)将制备所得的块状MoN纳米片加入N‑甲基‑2‑吡咯烷酮/水二元体系中超声,然后离心分离,收集上清液,最后得到MoN纳米片溶液。
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