[发明专利]化学液槽装置有效
| 申请号： | 201810982766.2 | 申请日： | 2018-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN109192680B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 苏界;徐融;顾立勋;杨永刚;蒋阳波;孙文斌 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种化学液槽装置，包括：化学液槽体，用于盛放化学液；循环单元，包括连接所述化学液槽体的循环管路，所述循环管路一端连接至所述化学液槽体的溶液输出端，另一端连接至所述化学液槽体内的喷嘴，化学液自所述化学液槽体的溶液输出端流出，经过所述循环管路后通过所述喷嘴喷出而进入所述化学液槽体内；浓度调整单元，包括支管路，所述支管路的输入端和输出端分别通过三通阀连接至所述循环管路，且所述支管路的路径上设置有离子源容器，所述离子源容器两端与所述支管路连通，用于放置离子源物质。所述化学液槽装置能够自动调整化学液内的杂质离子浓度。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 装置 | ||
【主权项】：
1.一种化学液槽装置，其特征在于，包括：化学液槽体，用于盛放化学液；循环单元，包括连接所述化学液槽体的循环管路，所述循环管路一端连接至所述化学液槽体的溶液输出端，另一端连接至所述化学液槽体内的喷嘴，化学液自所述化学液槽体的溶液输出端流出，经过所述循环管路后通过所述喷嘴喷出而进入所述化学液槽体内；浓度调整单元，包括支管路，所述支管路的输入端和输出端分别通过三通阀连接至所述循环管路，且所述支管路的路径上设置有离子源容器，所述离子源容器两端与所述支管路连通，用于放置离子源物质。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
