[发明专利]通过添加剂的EUV金属光刻胶性能增强有效
| 申请号： | 201810989869.1 | 申请日： | 2018-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN110609442B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;郑雅如;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 在晶圆上方形成光刻胶层。光刻胶层包括金属光刻胶材料和一种或多种添加剂。使用光刻胶层实施极紫外(EUV)光刻工艺。一种或多种添加剂包括：沸点高于约150摄氏度的溶剂、光酸产生剂、光碱产生剂、猝灭剂、光分解碱、热酸产生剂或光敏交联剂。本发明的实施例还涉及通过添加剂的EUV金属光刻胶性能增强。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 添加剂 euv 金属 光刻 性能 增强 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶材料，包括：/n用于极紫外(EUV)光刻的金属光刻胶材料；以及/n添加剂；/n其中，所述添加剂包括：沸点高于150℃的溶剂、光酸产生剂、光碱产生剂、猝灭剂、光分解碱、热酸产生剂或光敏交联剂。/n
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