[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物在审
| 申请号： | 201810996546.5 | 申请日： | 2014-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN109136925A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李恩庆;殷熙天;金世训;申孝燮 | 申请（专利权）人： | 易安爱富科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;苏虹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种蚀刻铜及钼含有膜时，控制钼或钼合金膜的侧蚀，实现稳定的蚀刻工程，并可改善蚀刻锥角、蚀刻偏差和蚀刻直线度等蚀刻特性的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物中，相对于总重量，过氧化氢的含量为10至30重量％，蚀刻抑制剂的含量为0.1至5重量％，螯合剂的含量为0.1至5重量％，蚀刻添加剂的含量为0.1至5重量％，氟化物的含量为0.01至2重量％，侧蚀抑制剂的含量为0.01至2重量％，及使总重量达到100重量％的水。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 蚀刻液组合物 侧蚀 过氧化氢的 蚀刻添加剂 蚀刻抑制剂 蚀刻特性 氟化物 抑制剂 直线度 钼合金 螯合剂 锥角 | ||
【主权项】：
1.一种铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物的总重量，含有10至30重量％的过氧化氢；含有0.1至5重量％的蚀刻抑制剂，其选自分子内含有氧、硫及氮中至少一个以上的杂原子的单环式杂环化合物，具有所述单环式杂环和苯环缩合结构的复素环化合物及其混合物所构成的群；含有0.1至5重量％的螯合剂；含有0.1至5重量％的蚀刻添加剂，其为一种以上选自由无机酸、有机酸及其盐构成群的化合物；含有0.01至2重量％的氟化物；含有0.01至2重量％的钼膜或钼合金膜的侧蚀抑制剂，其包括在嘧啶和咪唑的缩合结构内，含有由氨基、羟基、羰基及甲基构成的群中的1个以上作用基的化合物，所述侧蚀抑制剂是选自由腺嘌呤、鸟嘌呤、次黄嘌呤、黄嘌呤、可可碱、咖啡因、异鸟嘌呤、尿酸及其混合物构成的群中的嘌呤碱；以及使组合物总重量达到100重量％的水。
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