[发明专利]6英寸图形化蓝宝石衬底及制备方法和LED外延片在审
| 申请号： | 201811002327.7 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109148653A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 徐平;冯磊 | 申请（专利权）人： | 湘能华磊光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/12 |
| 代理公司： | 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人： | 于淼 |
| 地址： | 423038 湖南省郴*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本申请提供了一种6英寸图形化蓝宝石衬底及制备方法和LED外延片，涉及LED技术领域，方法包括提供蓝宝石衬底；在蓝宝石衬底的表面涂覆一层光刻胶；对涂覆有光刻胶的蓝宝石衬底进行曝光、显影，形成图案化掩膜层，图案化掩膜层包括由分割道隔开的多个柱状光阻；将带有图案化掩膜层的蓝宝石衬底送入刻蚀机台反应腔体进行干法刻蚀，在蓝宝石衬底表面形成图案化结构，形成图案化蓝宝石衬底，图案化结构包括多个U型凹槽和多个三角锥状凸起结构，U型凹槽将三角锥状凸起结构分割为多个独立的图块单元，各图块单元内中分别包括多个三角锥状凸起结构。如此有利于提高磊晶质量及制程良率。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 蓝宝石 图案化掩膜层 三角锥状 凸起结构 图形化蓝宝石 图案化结构 光刻胶 图块 制备 表面涂覆 衬底表面 反应腔体 干法刻蚀 刻蚀机台 分割道 图案化 隔开 光阻 磊晶 良率 涂覆 显影 制程 柱状 送入 曝光 分割 申请 | ||
【主权项】：
1.一种6英寸图形化蓝宝石衬底的制备方法，其特征在于，包括：提供蓝宝石衬底；在蓝宝石衬底的表面涂覆一层光刻胶，所述光刻胶的厚度为1μm≤D0≤3μm；对涂覆有所述光刻胶的蓝宝石衬底进行曝光、显影，形成图案化掩膜层，所述图案化掩膜层包括由分割道隔开的多个柱状光阻；将带有图案化掩膜层的蓝宝石衬底送入刻蚀机台反应腔体，使用三氯化硼、三氟甲烷和氧气对所述图案化掩膜层进行干法刻蚀，在所述蓝宝石衬底表面形成图案化结构，形成图案化蓝宝石衬底，所述图案化结构包括多个U型凹槽和多个三角锥状凸起结构，所述U型凹槽将所述三角锥状凸起结构分割为多个独立的图块单元，各所述图块单元内中分别包括多个所述三角锥状凸起结构；其中，所述反应腔体中的上射频功率为1000W≤W1≤1700W，下射频功率为300W≤W2≤800W，反应腔体压力为1MT≤P≤4MT，气体流量为20％≤K≤90％。
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