[发明专利]一种掩膜版及其控制方法有效
| 申请号： | 201811004828.9 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109061958B | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 冯贺;汪栋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩膜版及其控制方法，涉及掩膜版技术领域，能够解决现有技术中因一种掩膜版仅能用于形成一种掩膜图案而导致的生产成本增加的问题；该掩膜版包括：相对设置的第一基板和第二基板，以及位于第一基板和第二基板之间的功能层；该功能层主要由功能颗粒均匀排列而成，且功能颗粒在垂直电场的作用下能够发生聚集重排；且该功能颗粒不透光；第一基板上设置有第一电极，第二基板上设置有第二电极；第一电极和第二电极构成多个均匀分布的垂直电压发生单元。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括：相对设置的第一基板和第二基板，以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的功能层；所述功能层主要由功能颗粒均匀排列而成，且所述功能颗粒在垂直电场的作用下能够发生聚集重排，且所述功能颗粒不透光；所述第一基板上设置有第一电极，所述第二基板上设置有第二电极；所述第一电极和所述第二电极构成多个均匀分布的垂直电压发生单元。
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