[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201811004875.3 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN110071102A 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 沓挂弘之 申请(专利权)人: 东芝存储器株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/861
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本实施方式中的半导体装置具备第1导电型的半导体基板。垫设置在半导体基板上。内部电路设置在半导体基板上。静电放电保护元件设置在垫与内部电路之间。静电放电保护元件具备第2导电型的第1阱、第1导电型的第2阱、及第2导电型的第1电极层。第2导电型的第1阱设置在半导体基板的表面区域。第1导电型的第2阱在半导体基板的表面区域中设置在第1阱内。第2导电型的第1电极层在半导体基板的表面区域中设置在第2阱内。
搜索关键词: 导电型 半导体基板 静电放电保护元件 半导体装置 内部电路 电极层
【主权项】:
1.一种半导体装置,具备:第1导电型的半导体基板;垫,设置在所述半导体基板上;内部电路,设置在所述半导体基板上;以及静电放电保护元件,设置在所述垫与所述内部电路之间,并且具备:第2导电型的第1阱,设置在所述半导体基板的表面区域;第1导电型的第2阱,在所述半导体基板的表面区域中设置在所述第1阱内;以及第2导电型的第1电极层,在所述半导体基板的表面区域中设置在所述第2阱内。
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