[发明专利]一种双层PNZST钙钛矿反铁电薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811007336.5 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109234679B 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 郝喜红;沈秉忠;李雍;孙宁宁;杜金花;王炫力 申请(专利权)人: 内蒙古科技大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35;H01G4/12;H01G4/33;H01G13/00
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人: 刘少伟
地址: 014010 内蒙古自治区包*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明公开了一种双层PNZST钙钛矿反铁电薄膜及其制备方法,该反铁电薄膜包括化学通式为Pb0.99Nb0.02(Zr0.55Sn0.40Ti0.05)0.98O3(简写为PNZST)的材料;本发明设计了一种合适的射频磁控溅射方法来提高薄膜的储能性能,在该方法中对同一种PNZST材料采用不同射频磁控溅射工艺以分段式以及分层式的方式原位制备双层薄膜,测试结果表明通过合适的溅射工艺所制备的钙钛矿PNZST反铁电双层异质结构薄膜,与其他单层反铁电PNZST薄膜相比,此种工艺下所制备的双层PNZST薄膜具有更高的介电常数以及击穿场强,这有利于获得较高的储能密度以及较高的储能效率;双层反铁电PNZST薄膜其储能密度值高达39.35J/cm3,该值为单层反铁电PNZST薄膜储能密度值的1.43倍。
搜索关键词: 一种 双层 pnzst 钙钛矿反铁电 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种双层PNZST钙钛矿反铁电薄膜,其特征在于:反铁电薄膜包括从下至上的云母基片、镍酸镧底电极、第一层 Pb0.99Nb0.02(Zr0.55Sn0.40Ti0.05)0.98O3钙钛矿反铁电薄膜、第二层 Pb0.99Nb0.02(Zr0.55Sn0.40Ti0.05)0.98O3钙钛矿反铁电薄膜、镀有金的上电极;所述第一层 Pb0.99Nb0.02(Zr0.55Sn0.40Ti0.05)0.98O3钙钛矿反铁电薄膜的薄膜颗粒尺寸与颗粒间孔隙度均比第二层 Pb0.99Nb0.02(Zr0.55Sn0.40Ti0.05)0.98O3钙钛矿反铁电薄膜相应值小。
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