[发明专利]掩膜装置及太阳能电池的制备方法在审
| 申请号： | 201811010346.4 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109119365A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 崔鸽 | 申请（专利权）人： | 君泰创新（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 刘诚 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区亦*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例涉及一种掩膜装置及太阳能电池的制备方法。所述掩膜装置包括第一掩膜片、第二掩膜片和开合结构。所述第一掩膜片具有至少一个第一掩膜图形。所述第二掩膜片具有至少一个第二掩膜图形。每一个第一掩膜图形和每一个第二掩膜图形的形状相同。所述开合结构分别与所述第一掩膜片和所述第二掩膜片活动连接。当所述第一掩膜片和所述第二掩膜片闭合时，所述至少一个第一掩膜图形和所述至少一个第二掩膜图形重合。所述掩膜装置可以在掩膜过程中避免采用人工检测及误差校对，可以对大面积的太阳能电池实现双面掩膜，简单、方便的制备出均匀的太阳能电池。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜片 掩膜图形 太阳能电池 掩膜装置 制备 开合结构 掩膜 活动连接 人工检测 闭合时 重合 校对 申请 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜装置(100)，其特征在于，包括：第一掩膜片(10)，具有至少一个第一掩膜图形(11)；第二掩膜片(20)，具有至少一个第二掩膜图形(21)，所述至少一个第一掩膜图形(11)中的每一个第一掩膜图形(11)和所述至少一个第二掩膜图形(21)中的每一个第二掩膜图形(21)的形状相同；以及开合结构(30)，分别与所述第一掩膜片(10)和所述第二掩膜片(20)活动连接，用以调节所述第一掩膜片(10)和所述第二掩膜片(20)之间的夹角，以使得所述第一掩膜片(10)和所述第二掩膜片(20)闭合时，所述至少一个第一掩膜图形(11)和所述至少一个第二掩膜图形(21)重合。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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