[发明专利]消单色像差大视场双级联变焦透镜及其设计方法有效

专利信息
申请号: 201811025893.X 申请日: 2018-09-04
公开(公告)号: CN109031660B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 郑国兴;李嘉鑫;邓娟;邓联贵;李子乐;陶金;武霖;刘子晨;吴伟标;毛庆洲 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B1/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 俞琳娟
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供提供一种消单色像差大视场双级联变焦透镜及其设计方法,能够有效消除大视场下的单色像差。本发明所涉及的消单色像差的大视场双级联变焦透镜,其特征在于,包括:石英玻璃;第一纳米砖阵列结构,形成在该石英玻璃的一侧表面,用以校正透镜在大视场下的像差;以及第二纳米砖阵列结构,形成在该石英玻璃的另一侧表面,用以实现平行光束的聚焦,其中,第一纳米砖阵列结构和第二纳米砖阵列结构均由纳米砖单元周期性排列形成,并且纳米砖为长方体形,长宽高均为亚波长尺寸。本发明所提供的大视场双级联变焦透镜,具有体积小、成本低、重量小、设计思路简单的优点,非常适宜于在微型光电体系中应用。
搜索关键词: 单色 像差大 视场 级联 变焦 透镜 及其 设计 方法
【主权项】:
1.一种消单色像差的大视场双级联变焦透镜,其特征在于,包括:石英玻璃;第一纳米砖阵列结构,形成在所述石英玻璃的一侧表面,用以校正透镜在大视场下的像差;以及第二纳米砖阵列结构,形成在所述石英玻璃的另一侧表面,用以实现平行光束的聚焦,其中,所述第一纳米砖阵列结构和所述第二纳米砖阵列结构均由纳米砖周期性排列形成,并且所述纳米砖为长方体形,长宽高均为亚波长尺寸。
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