[发明专利]对准图案的设定方法在审

专利信息
申请号: 201811030602.6 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN109473389A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 渡部晃司;宫田论 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 于靖帅;乔婉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供对准图案的设定方法,即使对准图案不包含特征性部分,也能够抑制对准精度的降低。对准图案的设定方法具有如下的步骤:拍摄步骤(ST1),对包含晶片的间隔道的交叉部在内的图像进行拍摄;指定步骤(ST2),在显示出包含交叉部在内的图像的装置的操作画面中指定两个以上的包含间隔道与相互不同的器件之间的边界的区域;整体图制作步骤(ST3),制作包含所指定的所有区域在内的整体图;蒙遮步骤(ST4),对整体图中的除了所指定的区域以外的区域进行蒙遮;设定步骤(ST5),将进行了蒙遮的整体图设定为对准图案;以及存储步骤(ST6),对对准图案与间隔道的宽度方向的中心的距离进行存储。
搜索关键词: 对准图案 间隔道 图像 操作画面 存储步骤 拍摄 特征性 晶片 制作 存储 对准
【主权项】:
1.一种对准图案的设定方法,用于对在正面上形成有由多条间隔道呈格子状划分的器件的晶片沿着该间隔道进行分割时检测该间隔道的位置,其特征在于,该对准图案的设定方法具有如下的步骤:拍摄步骤,对包含该间隔道的交叉部在内的图像进行拍摄;指定步骤,在显示出包含该交叉部在内的图像的装置的操作画面中指定至少两个以上的包含该间隔道与器件之间的边界的区域;整体图制作步骤,制作包含所指定的所有区域在内的整体图;蒙遮步骤,对该整体图中的除了所指定的区域以外的区域进行蒙遮;设定步骤,将该进行了蒙遮的整体图设定为对准图案;以及存储步骤,对该对准图案中的任意的所指定的区域与该间隔道之间的距离进行存储。
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