[发明专利]氧化锆陶瓷抛光方法及氧化锆陶瓷制品有效
| 申请号： | 201811041188.9 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109262438B | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | 王高翔;文良兵;黄光荣;王文利 | 申请（专利权）人： | 东莞信柏结构陶瓷股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/02 | 分类号： | B24B31/02 |
| 代理公司： | 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 崔明思 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了氧化锆陶瓷抛光方法及氧化锆陶瓷制品。上述的氧化锆陶瓷抛光方法，包括如下步骤：氧化锆陶瓷在具有第一磨料与水的转动容器内分四个不同转速、不同时间的阶段转动，进行粗抛；氧化锆陶瓷在具有第二磨料与水的转动容器内分四个不同转速、不同时间的阶段转动，进行细抛；氧化锆陶瓷在具有第三磨料与水的转动容器内分四个不同转速、不同时间的阶段转动，进行精抛；氧化锆陶瓷制品由上述的氧化锆陶瓷抛光方法制备而成。本发明所述氧化锆陶瓷抛光方法，可减少产品缺陷、提高抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化锆陶瓷 抛光 氧化锆陶瓷制品 磨料 转动容器 转动 产品缺陷 抛光效率 粗抛 精抛 制备 | ||
【主权项】：
1.一种氧化锆陶瓷抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：/n在转动容器内加入第一磨料与水，将氧化锆陶瓷加入所述的转动容器内，所述转动容器依次至少分以下四个阶段转动，第一阶段：转速85r/min-100r/min，时间10min-20min；第二阶段：转速135r/min-165r/min，时间700min-800min；第三阶段：转速120r/min-140r/min，时间45min-80min；第四阶段：转速100r/min-120r/min，时间45min-80min；所述第一磨料为高频瓷与碳化硅；/n在转动容器内加入第二磨料与水，将所述的氧化锆陶瓷加入所述的转动容器内，所述转动容器依次至少分以下四个阶段转动，第一阶段：转速85r/min-100r/min，时间10min-20min；第二阶段：转速135r/min-165r/min，时间250min-300min；第三阶段：转速120r/min-140r/min，时间0.5min-3min；第四阶段：转速100r/min-120r/min，时间0.5min-3min；所述第二磨料为高频瓷与碳化硅；/n在转动容器内加入第三磨料与水，将所述的氧化锆陶瓷加入所述的转动容器内，所述转动容器依次至少分以下四个阶段转动，第一阶段：转速85r/min-100r/min，时间10min-20min；第二阶段：转速135r/min-165r/min，时间450min-480min；第三阶段：转速120r/min-140r/min，时间50min-80min；第四阶段：转速100r/min-120r/min，时间340min-400min；所述第三磨料为高频瓷与抛光粉。/n
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