[发明专利]一种化学机械平坦化设备在审
| 申请号： | 201811043848.7 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109015314A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 顾海洋;张志军;古枫;王东辉 | 申请（专利权）人： | 杭州众硅电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00;B24B41/06 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 李吉宽 |
| 地址： | 311305 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械平坦化设备。抛光模块包含两列抛光单元阵列，每列抛光单元包含多组抛光单元，两列抛光单元阵列对应的装卸台在位于抛光单元阵列的列方向上纵向排列，晶圆传输模块的工作部位于装卸台的垂直上方，完成晶圆在其他装卸区与所述装卸台以及所述装卸台之间的传输。根据需要每组晶圆传输单元可以形成级联，完成晶圆在各个装卸台之间的传输，实现晶圆在整个抛光单元阵列中的流转。本发明中晶圆传输单元因为布置在所述装卸台的上方，所以抛光头在装卸台进行装载或者卸载晶圆时，晶圆传输单元可以随时穿越抛光单元而不会受到干扰，采用这种布局有助于减少传输的行程，化学机械平坦化设备加工效率同比显著提升。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆 抛光单元 装卸台 化学机械平坦化 传输单元 传输 设备加工效率 传输模块 抛光模块 纵向排列 工作部 列方向 抛光头 装卸区 级联 流转 卸载 装载 穿越 垂直 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械平坦化设备，包括抛光模块、清洗单元和晶圆传输模块，清洗单元对抛光后的晶圆进行清洗，其特征在于，所述抛光模块包含两列抛光单元阵列，每列抛光单元包含两组或多组抛光单元，两列抛光单元阵列对应的装卸台在位于抛光单元阵列的列方向上纵向排列，所述晶圆传输模块的工作部位于沿纵向排列的装卸台的垂直上方，完成晶圆在其他装卸区与所述装卸台以及所述装卸台之间的传输。
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