[发明专利]光学元件面形修正方法及装置在审

专利信息
申请号: 201811048863.0 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN108890449A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 李亚国;许乔;金会良;刘志超;耿锋;袁志刚;王度;欧阳升;张清华;王健 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: B24B13/00 分类号: B24B13/00;B24B1/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 吴开磊
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明实施例提供一种光学元件面形修正方法及装置,该装置包括多个团簇离子束产生装置,各所述团簇离子束产生装置的输入口与提供不同源气的源气供给单元连接。通过利用集成了多个团簇离子束产生装置的加工装置,在待加工光学元件的不同的面形精度的情况下,选择适宜的团簇离子束产生装置以产生对应的团簇离子束,并以不同的加工模式对待加工光学元件进行加工,在提高待加工光学元件面形精度的同时降低加工区域的表面粗糙度。
搜索关键词: 离子束产生装置 团簇 加工光学元件 光学元件面形 面形 修正 表面粗糙度 供给单元 加工模式 加工区域 加工装置 离子束 输入口 源气 同源 加工
【主权项】:
1.一种光学元件面形修正方法,其特征在于,应用于包括多个团簇离子束产生装置的光学元件面形修正装置,其中,各所述团簇离子束产生装置的输入口与提供不同源气的源气供给单元连接,所述方法包括:在待加工光学元件的初始面形精度大于第一预设阈值时,开启所述多个团簇离子束产生装置中的第一团簇离子束产生装置并采用第一预设加工模式对所述待加工光学元件进行加工,直至所述待加工光学元件的面形精度达到第二预设阈值;在所述待加工光学元件的面形精度在所述第二预设阈值的基础上,开启所述多个团簇离子束产生装置中的第二团簇离子束产生装置并采用第二预设加工模式对所述待加工光学元件进行加工,直至所述待加工光学元件的面形精度小于第三预设阈值;在所述待加工光学元件的面形精度小于所述第三预设阈值的基础上,开启所述多个团簇离子束产生装置中的第三团簇离子束产生装置并采用第三预设加工模式对所述待加工光学元件进行加工,直至所述待加工光学元件的表面粗糙度小于设定值。
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