[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法

摘要

一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，光学邻近修正方法包括：提供初始光刻掩膜图形，初始光刻掩膜图形包括若干主图形；基于静电易发生判断规则，从若干主图形中获取主图形组，主图形组包括相邻的至少两个主图形；在主图形组中相邻的主图形之间设置辅助图形，辅助图形包括辅助主图形和位于辅助主图形两侧的辅助连接图形，辅助连接图形连接辅助主图形和主图形；对若干主图形和辅助图形进行OPC修正，使主图形形成主修正图形，使辅助图形形成辅助修正图形，辅助修正图形包括对应所述辅助主图形的辅助修正主图形和对应所述辅助连接图形的辅助修正连接图形。所述光学邻近修正方法避免相邻主修正图形的相对尖脚处发生图形缺角或桥接损毁的现象。

主权项

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供初始光刻掩膜图形，所述初始光刻掩膜图形包括若干主图形；基于静电易发生判断规则，从所述若干主图形中获取主图形组，所述主图形组包括相邻的至少两个主图形；在所述主图形组中相邻的主图形之间设置辅助图形，所述辅助图形包括辅助主图形和位于辅助主图形两侧的辅助连接图形，所述辅助连接图形连接辅助主图形和主图形；对若干主图形和辅助图形进行OPC修正，使主图形形成主修正图形，使辅助图形形成辅助修正图形，所述辅助修正图形包括对应所述辅助主图形的辅助修正主图形和对应所述辅助连接图形的辅助修正连接图形。