[发明专利]偏振光元件及其制造方法、以及光学设备有效
| 申请号： | 201811056018.8 | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN109557605B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 武田吐梦 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李啸;闫小龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 【课题】提供对于来自形成有格子状凸部的栅面侧的入射光和来自基板面侧的入射光这两者能够将吸收轴反射率抑制得较低的偏振光元件及其制造方法、以及具备该偏振光元件的光学设备。【解决方案】具有线栅构造的偏振光元件（1）具备：透明基板（10）；以及在透明基板（10）上以比使用波段的光波长短的间距排列并沿既定方向延伸的格子状凸部（11），格子状凸部（11）从透明基板（10）侧依次具有第1吸收层（13）、第1电介质层（14）、反射层（15）、第2电介质层（16）和第2吸收层（17）。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振光 元件 及其 制造 方法 以及 光学 设备 | ||
【主权项】：
1.一种偏振光元件，是具有线栅构造的偏振光元件，其具备：透明基板；以及格子状凸部，在所述透明基板上以比使用波段的光波长短的间距排列，并沿既定方向延伸,所述格子状凸部从所述透明基板侧依次具有第1吸收层、第1电介质层、反射层、第2电介质层和第2吸收层。
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