[发明专利]光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法

摘要

光掩模及其修正方法、制造方法、显示装置的制造方法，以稳定的条件高效地修正在转印用图案上产生的缺陷，并恢复该转印用图案的转印性。光掩模具备在透明基板上形成的转印用图案。转印用图案包括：主图案，其由透光部构成，直径为W1(μm)；辅助图案，其配置在主图案的附近，不被曝光装置析像，具备宽度d(μm)；及遮光部，其构成除了主图案和辅助图案以外的区域。遮光部是在透明基板上至少形成遮光膜而成的。辅助图案具有针对曝光用光的代表波长的光的透射率T(％)，并且隔着遮光部而将主图案的周围包围。在辅助图案上产生白缺陷且该白缺陷为辅助图案的面积的1/8以下时，在白缺陷部分形成遮光性的补充膜。

主权项

1.一种光掩模的修正方法，该光掩膜具备在透明基板上形成的转印用图案，该光掩模的修正方法的特征在于，所述转印用图案包括：主图案，其由透光部构成，直径为W1(μm)；辅助图案，其配置在所述主图案的附近，不被曝光装置析像，具备宽度d(μm)；及遮光部，其构成除了所述主图案和所述辅助图案之外的区域，所述遮光部是在所述透明基板上至少形成遮光膜而成的，所述辅助图案具有针对曝光用光的代表波长的光的透射率T(％)，并且，所述辅助图案隔着所述遮光部而将所述主图案的周围包围，所述代表波长的光在所述辅助图案上的透射光相对于所述代表波长的光在所述主图案上的透射光，相位差为大致180度，在所述辅助图案产生白缺陷时，进行在所述白缺陷部分形成由与所述遮光膜不同的材料构成的遮光性的补充膜的补充膜修正。