[发明专利]一种复合式磁控溅射沉积台有效
| 申请号： | 201811060180.7 | 申请日： | 2018-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN109207945B | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 丁红;乔宪武 | 申请（专利权）人： | 杭州联芳科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州经济技术开发区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于磁控溅射装置，具体涉及一种复合式磁控溅射沉积台。一种复合式磁控溅射沉积台，母沉积台和子沉积台，其特征在于：母沉积台固定在真空室内部下方，且位置在磁控溅射装置的正下方，子沉积台通过电机装置连接到母沉积台上方，并且子沉积台的台面能够水平转动，电声换能装置固定在母沉积台上，与子沉积台的台面水平。通过间歇性超声控制，有效的增强附着在金属丝表面层附着力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 磁控溅射 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种复合式磁控溅射沉积台，母沉积台（4）和子沉积台（5），其特征在于：母沉积台（4）固定在真空室（1）内部下方，且位置在磁控溅射装置（2）的正下方，子沉积台（5）通过电机装置连接到母沉积台（4）上方，并且子沉积台（5）的台面能够水平转动，电声换能装置（3）固定在母沉积台（4）上，与子沉积台（5）的台面水平。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州联芳科技有限公司，未经杭州联芳科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811060180.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
