[发明专利]用于功率集成电路输出LDMOS器件保护的高维持电压SCR结构在审

专利信息
申请号: 201811066380.3 申请日: 2018-09-13
公开(公告)号: CN109256378A 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 蔡小五;赵发展;淮永进;杜寰;黄启俊;周祥兵 申请(专利权)人: 扬州江新电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 韩素娟
地址: 225000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了集成电路领域内一种用于功率集成电路输出LDMOS器件保护的高维持电压SCR结构,包括P型衬底,P型衬底上层设有深N阱,深N阱上层从一侧到另一侧依次设有第一N阱、第一P阱、第二N阱和第二P阱,第一N阱上层设有P+注入区,第一P阱上层设有浅槽隔离区,第二P阱上层设有N+注入区,P+注入区引出有阳极,N+注入区引出有阴极。本发明的用于功率集成电路输出LDMOS器件保护的高维持电压SCR结构,通过位于中间区域的第一P阱的阻挡电流,使SCR电流路径变窄,同时延长电流路径,提高了维持电压。
搜索关键词: 维持电压 注入区 上层 功率集成电路 电流路径 深N阱 衬底 输出 阴极 集成电路领域 浅槽隔离区 阳极 中间区域 变窄 阻挡
【主权项】:
1.一种用于功率集成电路输出LDMOS器件保护的高维持电压SCR结构,包括P型衬底,其特征在于:所述P型衬底上层设有深N阱,所述深N阱上层从一侧到另一侧依次设有第一N阱、第一P阱、第二N阱和第二P阱,所述第一N阱上层设有P+注入区,所述第一P阱上层设有浅槽隔离区,所述第二P阱上层设有N+注入区,所述P+注入区引出有阳极,所述N+注入区引出有阴极。
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