[发明专利]一种新型管状ITO靶材的制备方法在审
| 申请号： | 201811068187.3 | 申请日： | 2018-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN109354490A | 公开（公告）日： | 2019-02-19 |
| 发明（设计）人： | 刘洪浩 | 申请（专利权）人： | 江苏比昂电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/457 | 分类号： | C04B35/457;C04B35/622;C04B35/645;C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙) 32268 | 代理人： | 冯现伟 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种新型管状ITO靶材的制备方法，其特征在于：所述ITO粉末以铟锭和四氯化锡为原料，通过工序制备得到重量百分比In2O3:SnO2＝96:3、纯度≥99.98％、粒度为0.7～1.5μm的ITO，所述ITO粉末通过化学共沉淀、脱水、煅烧及球磨的工序制备而成，通过化学共沉淀、脱水、煅烧及球磨等现有技术对原料进行处理得到ITO粉，再通过对ITO粉进行真空烧结、降温制备得到ITO靶材，方法简单，操作方便，便于推广使用，从而在制备中不容易出现管状ITO靶材组织的偏析现象，晶粒不是很微细均匀，纯度也不是很高的问题，并且具有尺寸大型化制作、高密度化、符合多种领域的使用，这样提高了管状ITO靶材的领域使用，从而具有很好的市场竞争力度，不容易被市场所淘汰。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 化学共沉淀 新型管状 球磨 煅烧 脱水 市场竞争力 重量百分比 高密度化 四氯化锡 真空烧结 晶粒 微细 偏析 铟锭 淘汰 制作 | ||
【主权项】：
1.一种新型管状ITO靶材的制备方法，其特征在于：所述ITO粉末以铟锭和四氯化锡为原料，通过工序制备得到重量百分比In2O3:SnO2＝96:3、纯度≥99.98％、粒度为0.7～1.5μm的ITO。
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