[发明专利]光敏树脂模型及其后处理方法有效

专利信息
申请号: 201811068650.4 申请日: 2018-09-13
公开(公告)号: CN109278324B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 郭天才;李维;朱涛;文华 申请(专利权)人: 中国航发湖南动力机械研究所
主分类号: B29C71/02 分类号: B29C71/02
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 袁礼君;阚梓瑄
地址: 412002 湖南省株*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 本公开提供了一种光敏树脂模型及其后处理方法,属于光敏树脂模型技术领域。该光敏树脂模型的后处理方法包括步骤:提供至少一个所述光敏树脂模型;在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥;对各所述光敏树脂模型进行退火。利用本公开提供的光敏树脂模型的后处理方法所制备的光敏树脂模型,其内部应力比较小,在应用于光弹性技术领域时,其初始应力条纹级数比较小,光弹性试验精度比较高。
搜索关键词: 光敏 树脂 模型 其后 处理 方法
【主权项】:
1.一种光敏树脂模型的后处理方法,其特征在于,包括:提供至少一个所述光敏树脂模型;在各所述光敏树脂模型表面涂覆活性剂后进行干燥;对各所述光敏树脂模型进行退火。
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