[发明专利]溅射装置及其使用方法有效
| 申请号： | 201811070875.3 | 申请日： | 2018-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN109943817B | 公开（公告）日： | 2023-04-11 |
| 发明（设计）人： | 阿部大和;渡部新;青沼大介 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 朱龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种能够提高冷却液的排出性的溅射装置及其使用方法，其特征在于，具有：环状的第一冷却液流路(R1)，形成于靶(110)和磁铁单元(130)之间，流过冷却靶(110)的冷却液；第二冷却液流路(R2)，设置于磁铁单元(130)的内部，流过所述冷却液；以及排液装置(P2)，从第一冷却液流路(R1)朝向第二冷却液流路(R2)送入使所述冷却液排出的气体，并且第一冷却液流路(R1)和第二冷却液流路(R2)的连接部位(RJ)构成为能够配置于环状的第一冷却液流路(R1)中的偏铅垂方向下方的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射装置，是在靶与基板之间形成磁场的状态下进行溅射的磁控溅射方式的溅射装置，在所述基板形成由所述靶的构成原子构成的薄膜，所述溅射装置的特征在于，具备：圆筒状的所述靶，所述靶设置于与所述基板相对的位置，且在溅射时旋转；磁铁单元，所述磁铁单元具有形成所述磁场的磁铁和支承该磁铁的支承构件，所述磁铁单元装卸自如地设置于所述靶的内部；环状的第一冷却液流路，所述第一冷却液流路形成于所述靶和所述磁铁单元之间，冷却所述靶的冷却液流过所述第一冷却液流路；第二冷却液流路，所述第二冷却液流路设置于所述磁铁单元的内部，所述冷却液流过所述第二冷却液流路；以及排液装置，所述排液装置从第一冷却液流路朝向第二冷却液流路送入使所述冷却液排出的气体，并且，第一冷却液流路和第二冷却液流路的连接部位构成为能够设置于环状的第一冷却液流路中的偏铅垂方向下方的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社，未经佳能特机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811070875.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：BaZrS
- 下一篇：一种原位制备超粗糙薄膜的方法
- 同类专利
- 专利分类
