[发明专利]制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法有效
| 申请号： | 201811079500.3 | 申请日： | 2018-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN109752883B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 蒙翠玲;郑文俊;潘苏;邓树端;郭海成 | 申请（专利权）人： | 香港科技大学 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/137;G02F1/13363;G02F1/1335;E06B9/24 |
| 代理公司： | 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 | 代理人： | 曹津燕;窦亚利 |
| 地址： | 中国香港*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于机械控制透光度可变窗口的连续变化轴偏光片及延迟片的形成方法，其中用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，方法包括以下步骤：在基片上涂覆光取向材料；将所述基片放置在线性移动装置上；和将基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中光源发出的光线穿过偏光片照射到基片上涂覆的光取向材料上，以在光取向材料上形成具有图案的光取向层。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 具有 连续 变化 取向 方向 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作具有连续变化的取向方向的光取向层的方法，所述方法包括以下步骤：在基片上涂覆光取向材料；将所述基片放置在线性移动装置上；和将所述基片的涂覆有光取向材料的一侧曝光在光源下，其中所述光源发出的光线穿过偏光片照射到所述基片上涂覆的光取向材料上，以在所述光取向材料上形成具有图案的光取向层。
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