[发明专利]一种用于CMP制程的清洗装置及其清洗方法

摘要

本发明公开了一种用于CMP制程的清洗装置及其清洗方法。其中，清洗装置包括依次连接的前段化学品清洗装置、超纯水超声波洗净装置、超纯水漂洗装置以及后续干燥装置，同时还设置有功能性超纯水加气产生装置。清洗方法包括：利用超纯水对CMP制程晶圆表面的化学品残留物进行超声波清洗，利用超纯水对超声波清洗后的晶圆进行漂洗，对经过清洗与漂洗的晶圆进行烘干处理等步骤。即本发明通过超纯水超声波洗净装置和超纯水漂洗装置对CMP制程后的晶圆进行清洗和漂洗，然后在送至晶圆干燥装置进行干燥处理，从而具备了加快晶圆洗净效率，提高生产效率，减少超纯水用量，消弭静电造成的产品缺陷等有益效果，并最终达到了增加产能、提升良率、节能环保等目的。

主权项

1.一种用于CMP制程的清洗装置，其特征在于，包括依次连接的前段化学品清洗装置、超纯水超声波洗净装置、超纯水漂洗装置以及后续干燥装置，所述超纯水超声波洗净装置与超纯水漂洗装置分别连接有功能性超纯水加气产生装置；所述超纯水超声波洗净装置对CMP制程后的晶圆进行清洗；所述超纯水漂洗装置对超纯水超声波洗净装置清洗后的晶圆进行漂洗；所述功能性超纯水加气产生装置分别向超纯水超声波洗净装置和超纯水漂洗装置供给超纯水。