[发明专利]掩膜版和掩膜版的清洗方法有效
| 申请号： | 201811090035.3 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN109023241B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 宁可涛 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜版和掩膜版的清洗方法，其中所述掩膜版包括基材层、熔射层，以及拆卸件；所述熔射层，用于吸附颗粒，所述颗粒在使用所述掩膜版对所述显示装置进行物理气相沉积时产生；所述拆卸件，用于在使用所述掩膜版对所述显示装置进行物理气相沉积时，将所述熔射层固定在所述基材层上，所述拆卸件，用于在清除所述颗粒时，将所述熔射层从所述基材层上剥离。该方案通过设置拆卸件，先将熔射层从基材层上拆卸下来，再对熔射层单独进行清洗，降低了掩膜版受损的几率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 清洗 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，用于对显示装置进行物理气相沉积，其特征在于，包括：基材层、熔射层，以及拆卸件；所述熔射层，用于吸附颗粒，所述颗粒在使用所述掩膜版对所述显示装置进行物理气相沉积时产生；所述拆卸件，用于在使用所述掩膜版对所述显示装置进行物理气相沉积时，将所述熔射层固定在所述基材层上，所述拆卸件，用于在清除所述颗粒时，将所述熔射层从所述基材层上剥离。
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