[发明专利]一种晶圆工作台清洁系统及清洁方法在审
| 申请号： | 201811094175.8 | 申请日： | 2018-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110928143A | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶圆工作台清洁系统及清洁方法，其中，晶圆工作台清洁系统包括：研磨块及清洗液喷头；研磨块位于晶圆工作台的上方，用以对晶圆工作台进行研磨，研磨块的研磨面与晶圆工作台平行设置，自研磨面向研磨块内部延伸包含至少一个研磨块通孔；清洗液喷头位于研磨块通孔内，与研磨块通孔的侧壁非接触，用以对所述晶圆工作台喷涂清洗液。本发明通过研磨块及清洗液喷头，可提高晶圆工作台的清洁效果及清洁效率；提高晶圆工作台的洁净度及平整度，从而提高产品质量；降低对晶圆工作台的损伤，延长晶圆工作台的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工作台 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
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