[发明专利]一种蚀刻液组合物及其镍铬硅薄膜的湿法刻蚀方法在审
| 申请号： | 201811099021.8 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN109082665A | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 王进 | 申请（专利权）人： | 绵阳致知高新科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 621052 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蚀刻液组合物及其镍铬硅薄膜的湿法刻蚀方法，所述的蚀刻液组合主要为硝酸铈铵、氢氟酸、十八烷基三甲基氯化铵、2—氧乙酸基丁导酸和水的混合物。与现有技术相比，本发明提出一种针对镍铬硅薄膜的蚀刻组合物，用于镍铬硅薄膜的蚀刻时，能够提高并控制蚀刻速度，并且有效抑制了光刻胶层的劣化，其结果是能够得到表面平坦光滑的蚀刻面。突破现有技术壁垒，研发出了薄膜电阻领域中镍铬硅薄膜的湿法刻蚀技术。推进镍铬硅薄膜电阻的市场化应用，为国家电子信息技术的快速发展贡献一份力量。 | ||
| 搜索关键词： | 镍铬硅 薄膜 蚀刻液组合物 蚀刻 薄膜电阻 湿法刻蚀 十八烷基三甲基氯化铵 电子信息技术 湿法刻蚀技术 蚀刻组合物 表面平坦 光刻胶层 技术壁垒 硝酸铈铵 有效抑制 混合物 氢氟酸 蚀刻面 蚀刻液 氧乙酸 劣化 光滑 应用 力量 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液组合物，其特征在于：所述的蚀刻液组合主要为硝酸铈铵、氢氟酸、十八烷基三甲基氯化铵、2—氧乙酸基丁导酸和水的混合物。
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