[发明专利]掩模装置及掩模控制方法有效
| 申请号： | 201811102151.2 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN109031882B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 蔡鹏;王鑫;王洋;杨军;张灿 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩模装置及掩模控制方法，属于显示技术领域。所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，掩模板包括与多个加压结构一一对应的多个掩模单元，掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，控制器与每个加压结构均连接；控制器用于：控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使第一加压结构对应的掩模单元处于遮光状态；控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使第二加压结构对应的掩模单元处于透光状态。本发明解决了掩模装置的工作效率较低的问题。本发明用于对显示面板中的膜层进行掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模装置，其特征在于，所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，所述掩模板包括与所述多个加压结构一一对应的多个掩模单元，所述掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，所述控制器与每个所述加压结构均连接；所述控制器用于：控制所述多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加所述第一压力，以使所述第一加压结构对应的掩模单元处于所述遮光状态；控制所述多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加所述第二压力，以使所述第二加压结构对应的掩模单元处于所述透光状态。
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