[发明专利]基板处理装置、反应管、半导体装置的制造方法及程序

摘要

本发明提供抑制在构成反应管的外管与内管的间隙可能生成的副生成物的技术。基板处理装置具备：反应管，具有筒状的内管及以包围内管的方式设置的筒状的外管；基板保持件，收纳于内管，上下保持多个基板；气体喷嘴，沿上下方向设置于外管及内管之间的间隙，从在上下形成有多个的供给孔向开设于内管的流入口供给气体而在基板形成膜；流出口，形成于内管，流出供给至内管的气体；排出口，形成于外管，向反应管的外侧排出从流出口流出的气体；排出单元，使滞留于间隙的气体从排出口排出；以及控制部，控制为从气体喷嘴供给原料气体及惰性气体而在基板形成膜，从排出口排出反应管内的环境空气的同时，从气体喷嘴供给惰性气体，并将滞留于间隙的气体排出。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：反应管，其具有筒状的内管及以包围该内管的方式设置的筒状的外管；基板保持件，其收纳于上述内管，且上下保持多个基板；气体喷嘴，其沿上下方向设置于上述外管及上述内管之间的间隙，且从在上下形成有多个的供给孔向开设于上述内管的流入口供给气体，从而在上述基板形成膜；流出口，其形成于上述内管，且流出供给至该内管的气体；排出口，其形成于上述外管，且向上述反应管的外侧排出从上述流出口流出的气体；排出单元，其使滞留于上述间隙的气体从上述排出口排出；以及控制部，其控制为从上述气体喷嘴供给原料气体及惰性气体而在上述基板形成膜，从上述排出口排出上述反应管内的环境空气的同时，从上述气体喷嘴供给惰性气体，并将滞留于上述间隙的气体排出。