[发明专利]一种掩模板及其制作方法

摘要

本申请公开了一种掩模板及其制作方法，包括：基板和光阻层，所述光阻层设置在基板上，所述光阻层与产品接触的一侧为顶壁，所述顶壁具有至少两个平行于基板的贴合面，相邻贴合面的高度不同，相邻贴合面间通过垂直于基板的连接壁连接，所述顶壁用于记载三维立体结构信息。当需要生产具有多层结构的产品时，可以通过电镀、注塑或直接压印等方式将光阻层所含的三维立体结构信息传递到产品的原材料上，完成产品的生产，无需采用多个掩模板对准套刻生产，避免了对准套刻生产中的偏差，提升了产品生产的精度，降低了废品率，减少了曝光次数，从而节省了工序，减少了使用掩模板的张数，节约了成本。

主权项

1.一种掩模板，其特征在于，包括：基板和光阻层，所述光阻层设置在基板上；所述光阻层与产品接触的一侧为顶壁，所述顶壁具有至少两个平行于基板的贴合面，相邻贴合面的高度不同，相邻贴合面间通过垂直于基板的连接壁连接，所述顶壁用于记载三维立体结构信息。