[发明专利]单晶圆处理装置及其操作方法、传送方法与准直器在审
申请号: | 201811109032.X | 申请日: | 2018-09-21 |
公开(公告)号: | CN109706436A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 黄灿华;邱信翔;黄健宝 | 申请(专利权)人: | 汉民科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L21/677;H01L21/687 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张琳 |
地址: | 中国台湾台北巿大*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种单晶圆处理装置,包含转盘、承载盘及齿轮环。转盘可绕中心轴作旋转,且具有偏心开孔,其偏心轴偏离中心轴。承载盘用以承载晶圆,且嵌合于转盘的偏心开孔。齿轮环嵌合于转盘,且具有穿透开孔,其内缘设有多个齿,啮合于承载盘外缘的多个齿。 | ||
搜索关键词: | 转盘 承载盘 开孔 偏心 处理装置 齿轮环 单晶 嵌合 啮合 偏离中心 偏心轴 中心轴 准直器 晶圆 穿透 承载 传送 | ||
【主权项】:
1.一种单晶圆处理装置,其特征在于包含:转盘,可绕中心轴作旋转,该转盘具有偏心开孔,其偏心轴偏离该中心轴;承载盘,用以承载晶圆,该承载盘嵌合于该转盘的偏心开孔;及齿轮环,嵌合于该转盘,该齿轮环具有穿透开孔,其内缘设有多个齿,啮合于该承载盘外缘的多个齿。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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