[发明专利]包括静电放电保护图案的半导体器件及其制造方法在审
申请号: | 201811110552.2 | 申请日: | 2018-09-21 |
公开(公告)号: | CN109585440A | 公开(公告)日: | 2019-04-05 |
发明(设计)人: | 卢廷铉 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/78 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 提供了包括静电放电保护图案的半导体器件及其制造方法。所述半导体器件可包括在基板上的前道工序区,其中,所述前道工序区可包括静电放电保护电路和与所述静电放电保护电路电连接的集成电路。后道工序区可在所述前道工序区上,并且静电放电保护图案可在所述基板的划片区上。所述静电放电保护图案可包括下部图案,所述下部图案沿着所述基板延伸并且具有暴露在所述后道工序区外部的侧表面。通路可电连接到所述下部图案并且垂直于所述基板延伸,并且上部图案可电连接到所述通路。 | ||
搜索关键词: | 图案 静电放电保护 基板 半导体器件 电连接 静电放电保护电路 侧表面 划片区 延伸 集成电路 制造 垂直 暴露 外部 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,所述半导体器件包括:在基板上的前道工序区,所述前道工序区包括静电放电保护电路和与所述静电放电保护电路电连接的集成电路;在所述前道工序区上的后道工序区;以及在所述基板的划片区上的静电放电保护图案,其中,所述静电放电保护图案包括:下部图案,所述下部图案沿着所述基板水平延伸并且具有暴露在所述后道工序区外部的侧表面;通路,所述通路电连接到所述下部图案并且垂直于所述基板延伸;以及上部图案,所述上部图案电连接到所述通路。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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