[发明专利]一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法在审
| 申请号： | 201811115582.2 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN109052420A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 太仓欧典新材料有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人： | 白凯园 |
| 地址： | 215400 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法，步骤如下：将纳米SiO2颗粒于60‑70℃干燥，取15‑25份分散于60‑70份甲苯中并置于三口烧瓶中，向其中滴加7‑9份十二烷基三乙氧基硅烷，在34‑36℃水浴及搅拌条件下回流反应6‑7h，反应完成后将产物高速离心分离，倾倒上清液，用去离子水、无水乙醇分别将膏体洗涤3‑5次，经真空干燥、研磨即得。该方法简便、快捷、易操作，经有机化改性，纳米SiO2颗粒由强亲水性转变为强疏水性，团聚现象明显减弱，表面自由能大幅降低，与有机溶剂的相容性显著提高。 | ||
| 搜索关键词： | 疏水性 纳米二氧化硅 制备 高速离心分离 三乙氧基硅烷 表面自由能 有机化改性 回流反应 搅拌条件 强亲水性 去离子水 三口烧瓶 十二烷基 团聚现象 无水乙醇 有机溶剂 研磨 上清液 相容性 甲苯 滴加 膏体 水浴 洗涤 倾倒 | ||
【主权项】：
1.一种疏水性纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于包括如下步骤：将纳米SiO2颗粒于60‑70℃干燥，取15‑25份分散于60‑70份甲苯中并置于三口烧瓶中，向其中滴加7‑9份十二烷基三乙氧基硅烷，在34‑36℃水浴及搅拌条件下回流反应6‑7h，反应完成后将产物高速离心分离，倾倒上清液，用去离子水、无水乙醇分别将膏体洗涤3‑5次，经真空干燥、研磨即得；各原料均为重量份。
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