[发明专利]彩膜基板及其制作方法在审
| 申请号： | 201811116377.8 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN109188756A | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 饶夙缔 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种彩膜基板，包括显示区和非显示区。非显示区设置有主间隔物和辅间隔物，主间隔物包括依次设置在下基板上的黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，辅间隔物包括依次设置在下基板上的基色色阻层和平坦层；主间隔物层累厚度大于辅间隔物的层累厚度，黑色矩阵层的厚度用以调节主间隔物和辅间隔物的层累厚度差。辅间隔物相较于主间隔物缺少黑色矩阵层，只需调节黑色矩阵层的厚度即可调节主辅间隔物的厚度差，无需修改掩膜版，降低了成本，简化了工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 间隔物 黑色矩阵层 主间隔物 彩膜基板 非显示区 依次设置 厚度差 基板 阻层 显示区 掩膜版 主辅 制作 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括显示区和非显示区：所述非显示区设置有主间隔物和辅间隔物，所述主间隔物包括依次设置在下基板上的黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，所述辅间隔物包括依次设置在所述下基板上的所述基色色阻层和所述平坦层；所述主间隔物层累厚度大于所述辅间隔物的层累厚度，所述黑色矩阵层的厚度改变用以调节所述主间隔物和辅间隔物的层累厚度差。
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