[发明专利]包含金属纳米线的透明导电性粘接剂膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201811117129.5 | 申请日： | 2018-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN109554135B | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 琴同基;金浚河;卓光龙 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09J7/29 | 分类号： | C09J7/29;C09J7/50;C09J7/30 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金成哲;宋海花 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供包含金属纳米线的透明导电性粘接剂膜及其制造方法，该包含金属纳米线的透明导电性粘接剂膜是能够应用于触摸传感器的透明导电性粘接剂膜。本发明的透明导电性粘接剂膜制造方法包括：在基材上形成分离层的步骤；在分离层上形成包含金属纳米线的导电性图案部的步骤；及将包含金属纳米线的导电性图案部转印至具有粘接力的透明介电体层的至少一面的步骤。根据本发明，通过将曾经用作触摸传感器的透明电极材料的ITO替换为金属纳米线，从而能够克服资源上的限制，能够在抑制电阻增加的同时大面积化，提高薄膜特性及柔性特性，并且由于简化制造工序，因而能够减少制造费用和制造时间，提高制品收率。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 金属 纳米 透明 导电性 粘接剂膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种透明导电性粘接剂膜的制造方法，其包括：在基材上形成分离层的分离层形成步骤；在所述分离层上形成包含金属纳米线的导电性图案部的导电性图案部形成步骤；及将所述包含金属纳米线的导电性图案部转印至具有粘接力的透明介电体层的至少一面的导电性图案部转印步骤。
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