[发明专利]一种硅基非晶氧化镓薄膜日盲光电晶体管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811120817.7 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109256438A 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 谷雪 申请(专利权)人: 北京镓族科技有限公司
主分类号: H01L31/113 分类号: H01L31/113;H01L31/0376;H01L31/032;H01L31/20
代理公司: 北京清诚知识产权代理有限公司 11691 代理人: 乔东峰;瞿朝兵
地址: 101300 北京市顺义区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种硅基非晶氧化镓薄膜日盲光电晶体管及其制造方法。所述的光电晶体管包括依次叠置的底电极、硅基衬底、氧化镓薄膜和上电极。其中硅基衬底为具有二氧化硅层的硅基衬底,氧化镓薄膜为室温生长的非晶氧化镓薄膜。本发明可采用商业化的制备方法磁控溅射生长薄膜,工艺可控性强、容易操作,制作成本低。本发明制得的氧化镓薄膜表面致密、厚度稳定均一,适于大面积制备、且复性好。本发明制得的光电晶体管响应度高、紫外可见抑制比高、制造工艺简单,且所用材料容易获得,在日盲紫外探测领域具有潜在的应用前景。
搜索关键词: 氧化镓 薄膜 光电晶体管 硅基衬 硅基非 日盲 制备 致密 二氧化硅层 工艺可控性 薄膜表面 磁控溅射 厚度稳定 制造工艺 紫外可见 紫外探测 底电极 潜在的 响应度 抑制比 电极 生长 叠置 非晶 复性 均一 制造 制作 应用
【主权项】:
1.一种硅基非晶氧化镓薄膜日盲光电晶体管,包括依次叠置的底电极、衬底、氧化镓薄膜和上电极,其特征在于:所述氧化镓薄膜为非晶薄膜,所述衬底为SiO2/Si衬底,该SiO2/Si衬底包括上部的SiO2层和下部的Si层。
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