[发明专利]一种硅基非晶氧化镓薄膜日盲光电晶体管及其制造方法在审
申请号: | 201811120817.7 | 申请日: | 2018-09-26 |
公开(公告)号: | CN109256438A | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 谷雪 | 申请(专利权)人: | 北京镓族科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/113 | 分类号: | H01L31/113;H01L31/0376;H01L31/032;H01L31/20 |
代理公司: | 北京清诚知识产权代理有限公司 11691 | 代理人: | 乔东峰;瞿朝兵 |
地址: | 101300 北京市顺义区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种硅基非晶氧化镓薄膜日盲光电晶体管及其制造方法。所述的光电晶体管包括依次叠置的底电极、硅基衬底、氧化镓薄膜和上电极。其中硅基衬底为具有二氧化硅层的硅基衬底,氧化镓薄膜为室温生长的非晶氧化镓薄膜。本发明可采用商业化的制备方法磁控溅射生长薄膜,工艺可控性强、容易操作,制作成本低。本发明制得的氧化镓薄膜表面致密、厚度稳定均一,适于大面积制备、且复性好。本发明制得的光电晶体管响应度高、紫外可见抑制比高、制造工艺简单,且所用材料容易获得,在日盲紫外探测领域具有潜在的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 氧化镓 薄膜 光电晶体管 硅基衬 硅基非 日盲 制备 致密 二氧化硅层 工艺可控性 薄膜表面 磁控溅射 厚度稳定 制造工艺 紫外可见 紫外探测 底电极 潜在的 响应度 抑制比 电极 生长 叠置 非晶 复性 均一 制造 制作 应用 | ||
【主权项】:
1.一种硅基非晶氧化镓薄膜日盲光电晶体管,包括依次叠置的底电极、衬底、氧化镓薄膜和上电极,其特征在于:所述氧化镓薄膜为非晶薄膜,所述衬底为SiO2/Si衬底,该SiO2/Si衬底包括上部的SiO2层和下部的Si层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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