[发明专利]浸没基体、浸没基体的应用和浸没设备有效
| 申请号： | 201811123379.X | 申请日： | 2018-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN109557654B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | T.奥尔特;T.卡尔克布伦纳 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B21/33 | 分类号： | G02B21/33;G02B21/34;G01N33/48 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 侯宇 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及浸没基体(5)，其被构造用于调整光学装置的分界面处的光学性能，所述浸没基体在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm至200μm的范围的至少一个孔径，其中，纳米孔(8)具有选自0.5nm至20nm范围的至少一个平均孔径，所述多孔结构具有选自0.1‑100MPa范围内的弹性模量E。本发明还涉及浸没基体(5)的应用、具有浸没基体(5)的装置以及浸没设备。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 基体 应用 设备 | ||
【主权项】：
1.一种浸没基体(5)，其构造用于调整光学装置的分界面处的光学性能，所述浸没基体在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm至200μm范围的至少一个平均孔径，其中，纳米孔(8)具有选自0.5nm至20nm范围的至少一个平均孔径。
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