[发明专利]光通信开关、光控制方法、阵列基板以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201811125244.7 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109283768A 公开(公告)日: 2019-01-29
发明(设计)人: 王志东;周丽佳;张俊瑞;兰荣华 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/315 分类号: G02F1/315
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了光通信开关、光控制方法、阵列基板以及显示装置。具体的,本发明提出了一种光通信开关,包括:相对设置的第一基板以及第二基板;第一光介质层,第一光介质层设置在第一基板以及第二基板之间,第一光介质层由相变材料形成,相变材料在第一状态下具有第一折射率,在第二状态下具有第二折射率;第二光介质层,第二光介质层设置在第一基板以及第二基板之间,且第二光介质层和第一光介质层互相接触,第二光介质层的折射率与第一折射率或第二折射率相匹配;以及加热装置,加热装置被配置为能够使相变材料在第一状态以及第二状态之间转变。由此,该光通信开关制作工艺简单,响应时间快。
搜索关键词: 光介质层 折射率 光通信开关 第二基板 第一基板 相变材料 加热装置 显示装置 阵列基板 光控制 相对设置 制作工艺 匹配 响应 配置
【主权项】:
1.一种光通信开关,其特征在于,包括:相对设置的第一基板以及第二基板;第一光介质层,所述第一光介质层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间,所述第一光介质层由相变材料形成,所述相变材料在第一状态下具有第一折射率,在第二状态下具有第二折射率;第二光介质层,所述第二光介质层设置在所述第一基板以及所述第二基板之间,且所述第二光介质层和所述第一光介质层互相接触,所述第二光介质层的折射率与所述第一折射率或所述第二折射率相匹配;以及加热装置,所述加热装置被配置为能够使所述相变材料在所述第一状态以及所述第二状态之间转变。
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