[发明专利]用于制作衬垫式BPS的光罩和液晶显示面板有效
| 申请号： | 201811126276.9 | 申请日： | 2018-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN109298590B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 曹武 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/26 | 分类号： | G03F1/26;G02F1/13;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;刘巍 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制作衬垫式BPS的光罩和液晶显示面板。该用于制作衬垫式BPS的光罩设有用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案，所述衬垫图案包括透光区域以及设于所述透光区域中的具有小关键尺寸的遮光图案；所述具有小关键尺寸的遮光图案为某一特征方向上线度足够小的规则图案；所述关键尺寸小于等于5um。本发明还提供了一种液晶显示面板。本发明用于制作衬垫式BPS的光罩能够增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率，最终可以向上调节主隔垫物和辅助隔垫物间的实际段差；本发明的液晶显示面板的衬垫式BPS具有较大的段差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制作 衬垫 bps 液晶显示 面板 | ||
【主权项】：
1.一种用于制作衬垫式BPS的光罩，其特征在于，所述光罩设有用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案，所述衬垫图案包括透光区域以及设于所述透光区域中的具有小关键尺寸的遮光图案；所述具有小关键尺寸的遮光图案为某一特征方向上线度足够小的规则图案；所述关键尺寸小于等于5um。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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