[发明专利]显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法

摘要

本发明披露了一种显影单元清洁装置，应用于一曝光系统。所述显影单元清洁装置有效地解决显影单元内部固化光阻残渣清洁不净的问题，提高了所述显影单元的显影槽的洁净度，从而避免因所述显影单元的显影槽的洁净度所引起的产品不良问题，同时该装置可以二次利用光阻溶剂，提升了化学消耗品的使用率。

主权项

1.一种显影单元清洁装置，应用于一曝光系统，所述曝光系统包括一基板清洁单元、一基板涂布单元、一基板曝光单元和一基板显影单元；所述基板清洁单元用于对一基板进行清洁，并且将清洁后的基板传送至所述基板涂布单元；所述基板涂布单元通过一设置在所述基板涂布单元中的光阻涂布机构对基板进行涂布光阻，并且将涂布过光阻的基板传送至所述基板曝光单元；所述基板曝光单元用于通过掩模曝光制程对光阻定义图形，以执行曝光操作，并且在执行曝光操作之后，将基板传送至所述基板显影单元；所述基板显影单元用于通过显影制程对定义好图形的光阻进行显影，以形成图形化的光阻；其特征在于，所述显影单元清洁装置安装在所述曝光系统中，所述显影单元清洁装置分别连接至所述基板涂布单元和所述基板显影单元；所述显影单元清洁装置用于将所述基板涂布单元所产生的光阻溶剂废液传送至所述基板显影单元，并且对设置在所述基板显影单元中的显影槽进行清洁。