[发明专利]一种膜层图案化的方法、有机发光二极管的制备方法有效
申请号: | 201811138931.2 | 申请日: | 2018-09-28 |
公开(公告)号: | CN109285764B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 杨剑波;熊黎;唐成 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;H01L27/32;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种膜层图案化的方法、有机发光二极管的制备方法,属于显示技术领域,其可解决现有工艺无法实现光刻胶层图案化后的隔离柱的坡度角>90°的问题。本发明的膜层图案化的方法是在曝光显影后,采用反向固化的方式进行固化,由于未被完全固化的第一图案结构受重力作用,存在向下流动的趋势,故在其被逐渐固化过程中依靠重力方向的自然力,使得最终固化后的第二图案结构靠近衬底的一面的面积小于其背离衬底的一面的面积,在固化过程中得到倒梯形的形状,其中第二图案结构的背离衬底的一侧的面积较大,相当于该方法得到了较大的坡度角,将该方法用于制备OLED的隔离柱,有利于后续形成有机发光单元后隔离衬底一侧的水氧。 | ||
搜索关键词: | 一种 图案 方法 有机 发光二极管 制备 | ||
【主权项】:
1.一种膜层图案化的方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底的第一面上涂覆含有感光剂的聚合物材料,形成感光膜层;对感光膜层进行曝光、显影得到多个第一图案结构;将完成上述步骤的衬底反向设置,使在重力方向上,衬底和第一图案结构依次设置;由衬底的第二面的一侧进行固化得到多个第二图案结构,以使第二图案结构靠近衬底的一面在衬底上的正投影落入其背离衬底的一面在衬底上的正投影的范围内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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