[发明专利]一种DMD倾斜扫描的3D打印装置及方法在审
| 申请号： | 201811141753.9 | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109228348A | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 胡益铭;周金运 | 申请（专利权）人： | 广东工业大学 |
| 主分类号： | B29C64/264 | 分类号： | B29C64/264;B29C64/393;B29C64/129;B29C64/245;B33Y30/00;B33Y50/02;B33Y10/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 林丽明 |
| 地址： | 510006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种DMD倾斜扫描的3D打印装置及方法，装置包括控制系统，DMD倾斜扫描系统和位移平台，其中，所述的DMD倾斜扫描系统固定于位移平台之上，DMD倾斜扫描系统、位移平台均由所述的控制系统控制。所述的控制系统首先控制位移平台做好曝光准备，其次控制DMD倾斜扫描系统生成倾斜点阵列，最后控制位移平台扫描倾斜点阵列，倾斜点阵列上的亮点之间的重叠曝光产生线条或图案，并进行光固化，完成一层曝光面；重复上述步骤,逐层完成曝光面，最终成型为期望物体。本发明采用扫描曝光成型，实现在一次成型过程中打印大幅面积的期望成型物体，大幅度提高重复打印效率，也能够在单个幅面重复打印多个期望成型物体，提高单幅打印面积。 | ||
| 搜索关键词： | 位移平台 扫描系统 控制系统 点阵列 扫描 成型物体 打印装置 重复打印 曝光面 期望 成型 打印 幅面 曝光 扫描曝光 一次成型 光固化 线条 图案 重复 | ||
【主权项】：
1.一种DMD倾斜扫描的3D打印装置，其特征在于：包括控制系统，DMD倾斜扫描系统和位移平台，其中，所述的DMD倾斜扫描系统固定于位移平台之上，DMD倾斜扫描系统、位移平台均由所述的控制系统控制。
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