[发明专利]一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法

摘要

本发明专利公布了一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，所需材料及试剂包括：二氧化硅粒子、去离子水、乙醇、氨水、氢氧化钠、醋酸、正硅酸乙酯、γ‑丙基三甲氧基硅烷、缓冲溶液，所需设备包括：三颈瓶、离心管、离心机、水浴箱、透射电镜、真空干燥箱、pH计。本发明采用Stober来制备二氧化硅粒子，避免了以往方法导致的氨基、羧基比例难以调节的弊端，针对不同DNA，选择合适的pH环境进行吸附和脱附，各项材料可提前预制且便于保存，材料廉价，提供一种耗时较少、操作简便、成本更低、精度更高的赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法。

主权项

1.一种赖氨酸修饰的二氧化硅粒子制备及提取DNA方法，其特征在于：所需材料及试剂包括：二氧化硅粒子、去离子水、乙醇、氨水、氢氧化钠、醋酸、正硅酸乙酯、γ‑丙基三甲氧基硅烷、缓冲溶液，所需设备包括：三颈瓶、离心管、离心机、水浴箱、透射电镜、真空干燥箱、pH计，所述二氧化硅粒子为利用Stober方法自行制备，性能优越，氨基与羧基比例为1：1；所述缓冲溶液根据工艺的需要有两种，一种是促进二氧化硅粒子吸附DNA片段的低pH值的0.02M缓冲溶液，另一种是促进二氧化硅粒子脱附DNA片段的高pH值的0.02M缓冲溶液，具体pH值视DNA片段类型而定；所述透射电镜型号为JEM‑1200；所述离心机型号为Sigma 1‑14；所述pH计型号为Sartorius PB‑20；所述真空干燥箱为DZG‑6020。