[发明专利]一种高强度阻燃的芳杂环聚合物薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201811145165.2 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN109438982A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 刘文熙;潘鑫;王庭辉 | 申请（专利权）人： | 刘文熙;潘鑫;王庭辉 |
| 主分类号： | C08L79/04 | 分类号： | C08L79/04;C08K3/013;C08G73/06;C08J5/18 |
| 代理公司： | 东莞市十方专利代理事务所(普通合伙) 44391 | 代理人： | 黄云 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及薄膜技术领域，具体涉及一种高强度阻燃的芳杂环聚合物薄膜及其制备方法和应用，所述芳杂环聚合物薄膜由芳杂环聚合物树脂经酸浴湿法拉伸成膜工艺制得,所述芳杂环聚合物树脂的制备方法为：以对苯二甲酸和/或邻苯二甲酸、含溴对苯二甲酸和/或含溴邻苯二甲酸、硫酸肼为反应原料，在发烟硫酸中进行缩聚反应，得到所述芳杂环聚合物树脂。本发明的芳杂环聚合物薄膜具有较高的强度和极限氧指数，阻燃性能优异，还具有良好的尺寸稳定性、耐热性、耐氧化、电绝缘、耐溶剂性、特殊的导电性以及电致发光等性能，综合性能优异。 | ||
| 搜索关键词： | 芳杂环聚合物 薄膜 树脂 制备方法和应用 对苯二甲酸 邻苯二甲酸 含溴 阻燃 耐热性 薄膜技术领域 导电性 极限氧指数 成膜工艺 电致发光 发烟硫酸 反应原料 耐溶剂性 缩聚反应 综合性能 阻燃性能 电绝缘 硫酸肼 耐氧化 酸浴 制备 | ||
【主权项】：
1.一种高强度阻燃的芳杂环聚合物薄膜，所述芳杂环聚合物薄膜包括芳杂环聚合物树脂，其特征在于：所述芳杂环聚合物树脂包括以Am‑Bn表示的聚合物链，其中，A和B均为构成聚合物链主链的重复单元，且重复单元A、B以任意顺序排列，m和n均为正整数；所述重复单元A的结构式为：![]()
所述重复单元B的结构式为：![]()
其中，R1、R2、R3和R4为未取代或取代的溴，且R1、R2、R3和R4中至少有一个为取代的溴。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于刘文熙;潘鑫;王庭辉，未经刘文熙;潘鑫;王庭辉许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811145165.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
