[发明专利]一种在不透明基底上制备微结构的方法有效

专利信息
申请号: 201811147993.X 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN109188869B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 陶天骋;袁张瑾;金瑜洋;任玺谕;胡绪瑞;顾银炜;陶卫东;王刚 申请(专利权)人: 宁波市效实中学;宁波大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 徐雪波;陈蕾
地址: 315100 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种在不透明基底上制备微结构的方法,该方法引入螺旋塔图案,该螺旋塔图案为标示连续排列成的阵列,该阵列在水平面的投影中,由左向右横向排列n个标示后,朝上竖向排列n个标示,接着由右向左横向排列n个标示,然后向下竖向排列n‑1个标示…依次循环而构成回形图,各相邻标示在水平投影上的间距均为a,且各标示分别比按排列顺序位于其前面的标示竖向上升高度b,其中5≤n≤8,从而能在不同高度尝试刻写,进而找到合适的焦点起始位置,继而能实现在不透明基底上的准确光刻。本发明加工速度快,精度高,灵活性强,可在不透明基底上制备各种微结构,且制备过程简单易操作。
搜索关键词: 一种 不透明 基底 制备 微结构 方法
【主权项】:
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