[发明专利]一种红外镜头用锗单晶双面抛光片的清洗工艺

摘要

本发明公开了一种红外镜头用锗单晶双面抛光片的清洗工艺。本工艺采用无蜡工艺进行锗片双面抛光后，采用稀释的氢氟酸溶液浸泡去除表面抛光液，采用稀释的洗净剂超声去除表面沾污，采用稀释的氨水溶液兆声清洗进一步去除表面颗粒，达到免清洗表面。本发明采用了高纯洗净剂和HF溶液相结合的方式，配合超声波清洗，有效去除了双面抛光锗片的表面沾污，达到了免清洗的表面要求，极大提高了红外用双面抛光片的表面质量。本发明操作简单、易于实现，降低了双面抛光锗片的清洗难度，易于实现批量化生产。

主权项

1.一种红外镜头用锗单晶双面抛光片的清洗工艺，其特征是：采用无蜡工艺进行锗片双面抛光后，采用稀释的氢氟酸溶液浸泡去除表面抛光液，采用稀释的洗净剂超声去除表面沾污，采用稀释的氨水溶液兆声清洗进一步去除表面颗粒，达到免清洗表面，其工艺步骤如下：（1）、将一面抛光好的锗片装入PFA花篮中，在稀释的氢氟酸溶液中浸泡5min，然后进行纯水冲洗；（2）、将锗片放入稀释的洗净剂中超声5min，超声温度控制在50‑60℃，然后进行纯水冲洗；（3）、将第二面抛光好的锗片在稀释的氢氟酸溶液中浸泡5min，然后进行纯水冲洗；（4）、将锗片依次放入两杯装有稀释的洗净剂溶液中，超声温度控制在50‑60℃，每杯超声5min，然后在第3杯装有纯水中超声2min，再进行纯水冲洗；（5）、将清洗后的锗片放入稀释的氨水溶液中兆声清洗10min，清洗温度为20‑25℃，喷淋冲洗后甩干、检验。