[发明专利]梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置及方法有效

专利信息
申请号: 201811149497.8 申请日: 2018-09-29
公开(公告)号: CN109001122B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;李建超;吴慎将;杨利红;李阳;诗云云 申请(专利权)人: 西安工业大学
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21
代理公司: 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人: 黄秦芳
地址: 710032 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数的测量装置及方法。所述装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源,所述真空系统包括真空室和样品台;所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪;所述样品台安装在真空室顶部,离子源安装在真空室底部,离子源的离子束输出口正对样品台设置。测量方法是:先测量梯度折射率薄膜样品的初始椭偏参数,用离子束对薄膜进行减薄,再测量减薄后薄膜的椭偏参数,反复进行减薄、测试步骤,直到薄膜减薄到设定步长以下,即可得到最后一薄层的折射率和消光系数,在此基础上可依次得到其上各薄层的光学常数,最终获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布,实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。
搜索关键词: 梯度 渐变 折射率 薄膜 光学 常数 测量 装置 方法
【主权项】:
1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置,包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源(7),所述真空系统包括真空室(4)和样品台(5);所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪(8);所述样品台(5)安装在真空室(4)的顶部,离子源(7)安装在真空室(4)底部,两者相对而放,离子源(7)的离子束输出口正对样品台设置。
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