[发明专利]用于原子层沉积工艺的进气装置及原子层沉积装置

摘要

本发明实施例公开了一种用于原子层沉积工艺的进气装置及原子层沉积装置，包括：第一进气块和第二进气块；第一进气块插入第二进气块设置的第二中心进气通孔内，在第二中心进气通孔的内壁和第一进气块的侧壁之间形成相互隔离的第一环形密封空腔区域和第二环形密封空腔区域；设置有用于连通第一密封空腔区域和第一中心进气通孔、连通第二密封空腔区域和第一中心进气通孔的第一进气孔；设置有分别与第一密封空腔区域和第二密封空腔区域相连通的第二进气孔。本发明的进气装置、原子层沉积装置，可以防止两种前驱物在进气端初期因混合而发生化学反应；可以有效地减少原子层沉积工艺中由进气端产生的颗粒，对工艺稳定性起到正向作用。

主权项

1.一种用于原子层沉积工艺的进气装置，其特征在于，包括：第一进气块和第二进气块；第一进气块设置有第一中心进气通孔，所述第二进气块设置有第二中心进气通孔，所述第一进气块插入所述第二中心进气通孔内，所述第一进气块与所述第二进气块固定连接；在所述第二中心进气通孔的内壁和所述第一进气块的侧壁之间形成相互隔离的第一环形密封空腔区域和第二环形密封空腔区域；在所述第一进气块的侧壁上设置有用于连通所述第一密封空腔区域和所述第一中心进气通孔、连通所述第二密封空腔区域和所述第一中心进气通孔的第一进气孔；在所述第二进气块的侧壁上设置有分别与所述第一密封空腔区域和所述第二密封空腔区域相连通的第二进气孔。